药物结构杂质谱分析-中科重点实验室

药物结构杂质谱分析-中科重点实验室

中科广州化学研究所分析测试中心

(广州中科技术服务有限公司)

药物结构杂质谱分析

杂质谱分析—避免高风险杂质漏检和失控！

某API，基于工艺路线的杂质谱分析， 可能会产生 具有遗传毒性警惕结构单元的副产物，原分析方法未 到，鉴于其遗传毒性，定向制备杂质化合物，建 立针对性分析方法，严格控制（ppm水平）；根据工 艺条件分析，确定了严格的工艺控制要点。

 FDA案例 u

叔胺氧化形成N-氧化物—API叔胺基易被质子化，但 在API加速和长期储存（通氮防护）下，并没有发现 N-氧化物的形成达到显着程度。

 制剂产品片剂，粘合剂聚维酮和崩解剂交联聚维酮中残留的过氧化物，在长期储存时存在形成N-氧化物 降解产物的倾向。

通过试验设计，进行针对性研究，建立N-氧化物分 析方法，确定聚维酮和交联聚维酮中过氧化物的控制 限度。

杂质杂质谱分析

根据具体工艺的合成机理、起始物料、各中间体及API基本 结构，初步勾画出产品的杂质谱， ?

根据杂质安全性风险高低、杂质出现的难易和频率以及杂质 去除的难易情况，确定杂质控制的**级别，并确定杂质控 制的策略、步骤和程序。 ?

对产品质量有显着影响的杂质：高风险杂质、降解物质、难 以去除的杂质、难以控制的杂质? 

杂质 各称

JP16 ChP2010 USP34 EP7.0

申报标准杂质 控制限度

杂质A / ≤0.3% / 消旋体≤0.2% ≤0.1%

杂质B / / / 消旋体≤0.2% ≤0.1%

杂质C / / ≤0.3% 消旋体≤0.2% ≤0.1%

杂质D / / / 消旋体≤0.2% ≤0.1%

杂质E / ≤0.2% ≤0.3% 消旋体≤0.2% ≤0.2%

杂质F / / ≤0.3% 消旋体≤0.2% ≤0.1%

杂质G ≤0.4% ≤1.0% ≤0.8% / ≤0.5%

杂质H / / ≤0.3% / ≤0.2%

任何未知 杂质

≤0.1% ≤0.1% ≤0.1% ≤0.1% ≤0.1%

总杂质 ≤1.0%

（异构体除外） ≤0.5%

（异构体除外） ≤0.5%

≤0.5%

（异构体除外） ≤0.5%

基于杂质来源的杂质谱分析— 杂质的根本性有效

在杂质谱分析指导下，从杂质产生的源头入 手，优化制定合理的物料控制、生产过程控 制措施和包装贮藏条件，从根本上优化控制 杂质产生的因素，实现杂质的有效控制。

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